IBM推出世界首款2nm製程，但電晶體密度耐人尋味

 

IBM 推出以「2nm」為名的製程工藝，並宣稱是世界首款 2nm 製程。然而因為每種工藝技術的定義不同，這款 2nm 可能不如想像中的厲害。

 

通常，當製程工藝尺寸縮減至下個數量級時，每單位晶圓面積的電晶體密度通常可成長 50%，進而讓晶片面積縮小。然而，當 FinFET 技術興起時，電晶體密度成長／晶片面積縮減幅度卻逐漸偏離製程工藝尺寸的真實數值。

 

事實上，當今沒有任何一家晶圓製造商使用真實的製程公尺寸數值來命名。如果按照電晶體密度嚴格審視，Intel 的製程工藝尺寸大概是台積電的兩倍。

 

舉例來說，Intel 7nm 製程的電晶體密度其實跟台積電 5nm 製程差不多，而台積電 5nm 製程的電晶體密度只比自家 7nm 製程成長 15% 而已。

 

 

根據 IBM 的說法，他們的 2nm 製程使用的是 nanosheet（奈米片）技術，電晶體密度比台積電的 5nm 提高了 50%。這意味著，即便使用現今最寬鬆的標準，也只能稱作 3.5 nm 而已。

 

隨著光刻技術日新月異，尋找工藝尺寸繼續縮小的 FinFET 或其他製造技術的競賽仍在進行中。High-NA（高數值孔徑）EUV 就是其中之一，而 IBM 使用 nanosheet 則是另一種可行方式，這也許比單純縮小工藝尺寸來得更重要。