Intel 晶圓代工以高數值孔徑極紫外光微影設備為18A/14A 開創晶片製造新格局

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Source Intel 晶圓代工以高數值孔徑極紫外光微影設備為18A/14A 開創晶片製造新格局 https://news.xfastest.com/intel/139331/intel-high-na-euv/